6×6×0,25 дюйма субстрат фотомаски кварца для процесса фотолитографии

6 дюймов × 6 дюймов × 0,25 дюйма Кварцевая подложка для фотомаски для использования в чипах

Приложения

Области процесса фотолитографии, такие как производство микросхем интегральных схем, FPD (плоский дисплей),

МЭМС (микроэлектромеханические системы) и т. д.

Принцип работы

Маска — это графическая мастер-маска, обычно используемая в фотолитографии при производстве микронаноматериалов.Графическая структура

формируется на прозрачной подложке непрозрачным фотошаблоном, а затем графическая информация переносится на

подложка продукта в процессе экспонирования.

Функции                                                                         

                                                          Подложка фотомаски для чипа использовать

Технологический поток

→ Обнаружение сырья;

→ Грубая шлифовка;

→ Грубая полировка;

→ Очистка маски;

→ Контроль качества сырья;

→ Покрыт хромом;

→ Проверка работоспособности маски;

→ Фоторезистивное покрытие;

→ Упаковка;

→ Транспортировка.

Наши преимущества

Мы производитель.

Зрелый процесс.

Ответ в течение 24 рабочих часов.

Наша сертификация ISO

Части наших патентов

Части наших наград и квалификаций НИОКР