ZEIT Group
86-28-62156220-810
hua.du@zeit-group.com
Получить цитату
描述
English
French
German
Italian
Russian
Spanish
Portuguese
Dutch
Greek
Japanese
Korean
Arabic
Hindi
Indonesian
Vietnamese
Persian
Polish
描述
Главная страница
категории
Оборудование для нанесения оптических покрытий
Оптическое испытательное оборудование
Подложка для фотомаски
Система измерения двулучепреломления
Оптические элементы
Оборудование для атомно-слоевого осаждения
Машина для нанесения магнетронного напыления
Оборудование для обнаружения дефектов поверхности
Магнитореологическая отделочная машина
Оборудование для контроля плоскостности
Оборудование для контроля поверхности
Нестандартное оборудование
Решения для автоматизированных производственных линий
Система интерферометра лазера
Цифров Autocollimator
Объектив интерферометра
Продукция
Ресурсы
Новости
О Компании
Профиль компании
Наша фабрика
Контроль качества
Свяжитесь мы
Результат поиска (8)
Главная страница
-
Продукция
-
quartz photomask substrate онлайн производитель
подложка Фотомаски кварца 127×127мм для пользы плоскопанельного дисплея
Шлифовка Полировка Хромирование 5280 Кварцевая фотомаска Подложка 800мм×520мм
подложка фотомаски кварца 350×300мм для производства микросхемы интегральной схемы
Субстрат 5×5×0,09 фотомаски кварца микро- Электро механических систем 5009 дюймов
Шлифовальная полировка кварцевой фотомаски для использования с FPD и чипом
6×6×0,25 дюйма субстрат фотомаски кварца для процесса фотолитографии
подложка фотомаски 152×152мм ФПД для микро- нано изготовления
6×6×0,12 дюйма покрытие фоторезиста субстрата фотошаблона МЭМС хром
Общее 1 Страницы
