Атомно-слоевое осаждение в оптической промышленности
Приложения
| Приложения | Особая цель |
| Оптика | Оптические компоненты |
| Фотонный кристалл | |
| Электролюминесцентный дисплей | |
| Рамановская спектроскопия с усилением поверхности | |
| Прозрачный проводящий оксид | |
Светящийся слой, пассивирующий слой, фильтрующий защитный слой, антибликовое покрытие, анти-УФ |
Принцип работы
Осаждение атомного слоя (ALD), первоначально называвшееся эпитаксией атомного слоя, также называемое химическим паром атомного слоя.
показания(ALCVD) представляет собой особую форму химического осаждения из паровой фазы (CVD).Эта технология может осаждать вещества
на поверхностиподложки в виде одиночной атомарной пленки слой за слоем, что аналогично обычному химическому
депонирование, но впроцесс осаждения атомарного слоя, химическая реакция нового слоя атомарной пленки непосредственно
связанные спредыдущего слоя, так что в каждой реакции этим методом осаждается только один слой атомов.
Функции
| Модель | АЛД-ОКС—X |
| Система пленочного покрытия | АЛ2О3,TiO2,ZnO и т. д. |
| Диапазон температур покрытия | Нормальная температура до 500 ℃ (настраиваемый) |
| Размер вакуумной камеры покрытия | Внутренний диаметр: 1200 мм, высота: 500 мм (настраиваемый) |
| Структура вакуумной камеры | В соответствии с требованиями заказчика |
| Фоновый вакуум | <5×10-7мбар |
| Толщина покрытия | ≥0,15 нм |
| Точность контроля толщины | ±0,1нм |
| Размер покрытия | 200×200 мм² / 400×400 мм² / 1200×1200 мм² и т. д. |
| Равномерность толщины пленки | ≤±0,5% |
| Прекурсор и газ-носитель | Триметилалюминий, тетрахлорид титана, диэтилцинк, чистая вода, |
| Примечание: Доступно индивидуальное производство. | |
Образцы покрытия
Шаги процесса
→ Поместите подложку для покрытия в вакуумную камеру;
→ Вакуумировать вакуумную камеру при высокой и низкой температуре и синхронно вращать подложку;
→ Стартовое покрытие: подложка контактирует с прекурсором последовательно и без одновременной реакции;
→ Продувайте его газообразным азотом высокой чистоты после каждой реакции;
→ Прекратите вращение подложки после того, как толщина пленки станет стандартной, а операция продувки и охлаждения завершится.
завершите, затем извлеките подложку после того, как будут соблюдены условия отключения вакуума.
Наши преимущества
Мы производитель.
Зрелый процесс.
Ответ в течение 24 рабочих часов.
Наша сертификация ISO
Части наших патентов
Части наших наград и квалификаций в области НИОКР
Наши продукты продаются по всему миру, поэтому вы можете быть уверены в том, что производятся наши продукты в целом.
