Отправить сообщение
ZEIT Group 86-28-62156220-810 hua.du@zeit-group.com
Micro Electro Mechanical Systems MEMS Atomic Layer Deposition Equipment Lubricating Coating

Оборудование для атомно-слоевого осаждения микроэлектромеханических систем МЭМС смазывая покрытие

  • Высокий свет

    Микроэлектромеханические системы ALD

    ,

    Микроэлектромеханические системы Атомно-слоевое осаждение

    ,

    МЭМС Оборудование для атомно-слоевого осаждения

  • Масса
    Настраиваемый
  • размер
    Настраиваемый
  • Гарантийный срок
    1 год или в каждом конкретном случае
  • Настраиваемый
    Доступный
  • Условия доставки
    Морским/воздушным/мультимодальным транспортом
  • Место происхождения
    Чэнду, КНР
  • Фирменное наименование
    ZEIT
  • Сертификация
    Case by case
  • Номер модели
    АЛД-МЭМС-X—X
  • Количество мин заказа
    1 комплект
  • Цена
    Case by case
  • Упаковывая детали
    деревянная коробка
  • Время доставки
    От случая к случаю
  • Условия оплаты
    Т/Т
  • Поставка способности
    От случая к случаю

Оборудование для атомно-слоевого осаждения микроэлектромеханических систем МЭМС смазывая покрытие

Атомно-слоевое осаждение в промышленности микроэлектромеханических систем
 
 
Приложения 

Приложения     Особая цель

    Микроэлектромеханические системы (МЭМС)

    Противоизносное покрытие

    Антиадгезионное покрытие
    Смазочное покрытие

 
Принцип работы
В каждом технологическом цикле будет наноситься один атомный слой.Процесс покрытия обычно происходит в реакции
камеры, и технологические газы вводятся последовательно.В качестве альтернативы субстрат можно перемещать между двумя
зоны, заполненные различными прекурсорами (пространственный ALD) для реализации процесса.Весь процесс, включая все реакции
и операции очистки будут повторяться снова и снова, пока не будет достигнута желаемая толщина пленки.Конкретный
начальное фазовое состояние определяется поверхностными свойствами подложки, затем толщина пленки будет возрастать
постоянно с увеличением количества реакционных циклов. До сих пор можно точно контролировать толщину пленки.
 
Функции

  Модель   АЛД-МЭМС-X—X
  Система пленочного покрытия   АЛ2О3,TiO2,ZnO и т. д.
  Диапазон температур покрытия   Нормальная температура до 500 ℃ (настраиваемый)
 Размер вакуумной камеры покрытия

 Внутренний диаметр: 1200 мм, высота: 500 мм (настраиваемый)

  Структура вакуумной камеры   В соответствии с требованиями заказчика
  Фоновый вакуум   <5×10-7мбар
  Толщина покрытия   ≥0,15 нм
 Точность контроля толщины   ±0,1нм
  Размер покрытия   200×200 мм² / 400×400 мм² / 1200×1200 мм² и т. д.
  Равномерность толщины пленки   ≤±0,5%
  Прекурсор и газ-носитель

  Триметилалюминий, тетрахлорид титана, диэтилцинк, чистая вода,
азот и др.

  Примечание: Доступно индивидуальное производство.

                                                                                                                
Образцы покрытия
Оборудование для атомно-слоевого осаждения микроэлектромеханических систем МЭМС смазывая покрытие 0Оборудование для атомно-слоевого осаждения микроэлектромеханических систем МЭМС смазывая покрытие 1
Шаги процесса
→ Поместите подложку для покрытия в вакуумную камеру;
→ Вакуумировать вакуумную камеру при высокой и низкой температуре и синхронно вращать подложку;
→ Стартовое покрытие: подложка контактирует с прекурсором последовательно и без одновременной реакции;
→ Продувайте его газообразным азотом высокой чистоты после каждой реакции;
→ Прекратите вращение подложки после того, как толщина пленки станет стандартной, а операция продувки и охлаждения завершится.

завершите, затем извлеките подложку после того, как будут соблюдены условия отключения вакуума.
 
Наши преимущества
Мы производитель.
Зрелый процесс.
Ответ в течение 24 рабочих часов.
 
Наша сертификация ISO
Оборудование для атомно-слоевого осаждения микроэлектромеханических систем МЭМС смазывая покрытие 2
 
Части наших патентов
Оборудование для атомно-слоевого осаждения микроэлектромеханических систем МЭМС смазывая покрытие 3Оборудование для атомно-слоевого осаждения микроэлектромеханических систем МЭМС смазывая покрытие 4
 
Части наших наград и квалификаций в области НИОКР

Оборудование для атомно-слоевого осаждения микроэлектромеханических систем МЭМС смазывая покрытие 5Оборудование для атомно-слоевого осаждения микроэлектромеханических систем МЭМС смазывая покрытие 6