Отправить сообщение
ZEIT Group 86-28-62156220-810 hua.du@zeit-group.com
Al2O3 TiO2 Magnetron Sputtering Deposition System For Medical Treatment

Система осаждения магнетрона Ал2О3 ТиО2 распыляя для медицинского лечения

  • Высокий свет

    Медицинское лечение Магнетронное напыление

    ,

    Al2O3 TiO2 Магнетронное напыление

    ,

    Медицинская система магнетронного напыления

  • Масса
    Настраиваемый
  • Размер
    Настраиваемый
  • Настраиваемый
    Доступный
  • Гарантийный срок
    1 год или в каждом конкретном случае
  • Условия доставки
    Морским/воздушным/мультимодальным транспортом
  • Место происхождения
    Чэнду, КНР
  • Фирменное наименование
    ZEIT
  • Сертификация
    Case by case
  • Номер модели
    МСК-МТ-Х—Х
  • Количество мин заказа
    1 комплект
  • Цена
    Case by case
  • Упаковывая детали
    деревянная коробка
  • Время доставки
    От случая к случаю
  • Условия оплаты
    Т/Т
  • Поставка способности
    От случая к случаю

Система осаждения магнетрона Ал2О3 ТиО2 распыляя для медицинского лечения

Магнетронное напыление в медицинской промышленности
 
 
Приложения    

     Приложения     Особая цель     Тип материала
    Медицинское лечение     Биосовместимые материалы      Ал2О3, TiO2

 
Принцип работы
Основной принцип магнетронного распыления заключается в том, что электроны сталкиваются с атомами аргона в процессе полета к

вподложке под действием электрического поля образующиеся ионы аргона бомбардируют поверхность мишени.После энергии

обмен,атомы на поверхности мишени покидают исходную решеткуи переносятся на субстрат

поверхность для образования пленок.
 
Функции 

  Модель   МСК-МТ-Х—Х
 Тип покрытия   Различные диэлектрические пленки, такие как металлическая пленка, оксид металла и AIN
 Диапазон температур покрытия   Нормальная температура до 500 ℃
 Вакуум для покрытиякамера сизе  700 мм * 750 мм * 700 мм (настраиваемый)
  Фоновый вакуум   < 5×10-7мбар
 Толщина покрытия   ≥ 10 нм
  Точность контроля толщины  ≤ ±3%
 Максимальный размер покрытия   ≥ 100 мм (настраиваемый)
  Равномерность толщины пленки   ≤ ±0,5%
  Носитель субстрата  С планетарным механизмом вращения
  Целевой материал   4×4 дюйма (совместимо с 4 дюймами и ниже)
  Источник питания  Источники питания, такие как постоянный ток, импульс, ВЧ, ПЧ и смещение, являются дополнительными.
  Технологический газ   Ар, Н2, О2
  Примечание: Доступно индивидуальное производство.

                                                                                                                
Образец покрытия

Система осаждения магнетрона Ал2О3 ТиО2 распыляя для медицинского лечения 0

 

Шаги процесса 
→ Поместите подложку для покрытия в вакуумную камеру;
→ Грубо пропылесосить;
→ Включите молекулярный насос, пропылесосьте на максимальной скорости, затем включите обороты и вращение;
→ Нагрев вакуумной камеры до достижения заданной температуры;
→ Внедрить постоянный контроль температуры;
→ Очистите элементы;
→ Вращение и обратно в исходное положение;
→ Покрытие пленкой в ​​соответствии с технологическими требованиями;
→ Понизьте температуру и остановите узел насоса после нанесения покрытия;
→ Остановить работу, когда автоматическая операция завершена;

 
Наши преимущества
Мы производитель.
Зрелый процесс.
Ответ в течение 24 рабочих часов.

 
Наша сертификация ISO
Система осаждения магнетрона Ал2О3 ТиО2 распыляя для медицинского лечения 1
 

Части наших патентов
Система осаждения магнетрона Ал2О3 ТиО2 распыляя для медицинского лечения 2Система осаждения магнетрона Ал2О3 ТиО2 распыляя для медицинского лечения 3
 

Части наших наград и квалификаций НИОКР
Система осаждения магнетрона Ал2О3 ТиО2 распыляя для медицинского лечения 4Система осаждения магнетрона Ал2О3 ТиО2 распыляя для медицинского лечения 5