Отправить сообщение

Продукция Получить цитату

Главная страница -

ZEIT Group Продукция

подложка фотомаски кварца 350×300мм для производства микросхемы интегральной схемы
Шлифовка Полировка Хромирование 5280 Кварцевая фотомаска Подложка 800мм×520мм
VIS 520nm 590nm 650nm Оборудование для измерения двойного лучепреломления
Царапает разрешение 1.8μM оборудования обнаружения поверхности полупроводника пыли
Оборудование для испытаний 40x систем детектора поверхности полупроводника оптически
Оборудование обнаружения системы измерения двойного лучепреломления прозрачного напряжения смолы в режиме реального времени
Оборудование для обнаружения дефектов поверхности стеклянной подложки 1.8um
Субстрат 5×5×0,09 фотомаски кварца микро- Электро механических систем 5009 дюймов
TiO2 Al2O3 ALD Оборудование для нанесения оптических покрытий методом атомно-слоевого осаждения ISO
TiO2 Al2O3 Оптическое покрытие Оборудование для осаждения ALD ISO
Обработка поверхности зеркала оптических элементов диэлектрической разнослойной пленки параболического сферически
6×6×0,12 дюйма покрытие фоторезиста субстрата фотошаблона МЭМС хром
Решения автоматизированной производственной линии нефтехимической новой энергетической промышленности для подачи заглушки
Решения ZEIT для автоматизированной производственной линии для очистки системы переработки отходов
Коатер закрутки оборудования ЗЭИТ нестандартный для индустрии оптической обработки
Машина нефтехимической автомобильной промышленности нестандартного оборудования оптически полируя

5 6 8 9 Последний Общее 10 Страницы