ZEIT Group
86-28-62156220-810
hua.du@zeit-group.com
Получить цитату
描述
English
Français
Deutsch
Italiano
Русский
Español
Português
Nederlandse
ελληνικά
日本語
한국
العربية
हिन्दी
Indonesia
Tiếng Việt
فارسی
Polski
Главная страница
категории
Оборудование для нанесения оптических покрытий
Оптическое испытательное оборудование
Подложка для фотомаски
Система измерения двулучепреломления
Оптические элементы
Оборудование для атомно-слоевого осаждения
Машина для нанесения магнетронного напыления
Оборудование для обнаружения дефектов поверхности
Магнитореологическая отделочная машина
Оборудование для контроля плоскостности
Оборудование для контроля поверхности
Нестандартное оборудование
Решения для автоматизированных производственных линий
Система интерферометра лазера
Цифров Autocollimator
Объектив интерферометра
Продукция
Ресурсы
Новости
О Компании
Профиль компании
Наша фабрика
контроль качества
контактные данные
Продукция
Получить цитату
Главная страница
-
ZEIT Group Продукция
Машина АЛД осаждения атомного слоя биосенсора для индустрии датчика
MOSFET Semiconductor Detector Systems Оборудование для осаждения атомных слоев ISO
Оборудование АЛД осаждения атомного слоя для органической индустрии электронной упаковки
Разделительная мембрана Полевая фильтрация Атомно-слоевое осаждение Машина ALD
Система атомно-слоевого осаждения в полевых условиях Защитное покрытие Герметизирующее покрытие
Промышленное атомное напыление магнитных головок ALD Machine OEM
Оборудование для атомно-слоевого осаждения микроэлектромеханических систем МЭМС смазывая покрытие
Машина осаждения атомарного слоя ТиО2 ЗнО для энергетики
Оборудование атомного слоя катализатора окиси металла в индустрии катализатора
Триметилалюминий AL2O3 TiO2 ZnO ALD Лакировочная машина атомного слоя осаждения
Царапины Пылезащитная маска Оборудование для обнаружения дефектов поверхности подложки OEM
Размер покрытия 200×200мм оборудования для нанесения покрытий АЛД Ал2О3 оптически
подложка Фотомаски кварца 127×127мм для пользы плоскопанельного дисплея
подложка фотомаски 152×152мм ФПД для микро- нано изготовления
подложка фотомаски кварца 350×300мм для производства микросхемы интегральной схемы
Шлифовка Полировка Хромирование 5280 Кварцевая фотомаска Подложка 800мм×520мм
4
5
6
7
8
Последний
Общее 10 Страницы