ZEIT Group
86-28-62156220-810
hua.du@zeit-group.com
Получить цитату
描述
English
French
German
Italian
Russian
Spanish
Portuguese
Dutch
Greek
Japanese
Korean
Arabic
Hindi
Indonesian
Vietnamese
Persian
Polish
描述
Главная страница
категории
Оборудование для нанесения оптических покрытий
Оптическое испытательное оборудование
Подложка для фотомаски
Система измерения двулучепреломления
Оптические элементы
Оборудование для атомно-слоевого осаждения
Машина для нанесения магнетронного напыления
Оборудование для обнаружения дефектов поверхности
Магнитореологическая отделочная машина
Оборудование для контроля плоскостности
Оборудование для контроля поверхности
Нестандартное оборудование
Решения для автоматизированных производственных линий
Система интерферометра лазера
Цифров Autocollimator
Объектив интерферометра
Продукция
Ресурсы
Новости
О Компании
Профиль компании
Наша фабрика
Контроль качества
Свяжитесь мы
Продукция
Получить цитату
Главная страница
-
ZEIT Group Продукция
Система атомно-слоевого осаждения в полевых условиях Защитное покрытие Герметизирующее покрытие
Промышленное атомное напыление магнитных головок ALD Machine OEM
Оборудование для атомно-слоевого осаждения микроэлектромеханических систем МЭМС смазывая покрытие
Машина АЛД осаждения атомного слоя биосенсора для индустрии датчика
Разделительная мембрана Полевая фильтрация Атомно-слоевое осаждение Машина ALD
Оборудование АЛД осаждения атомного слоя для органической индустрии электронной упаковки
Оборудование атомного слоя АЛ2О3 для индустрии картины наноструктуры
Оборудование атомного слоя катализатора окиси металла в индустрии катализатора
MOSFET Semiconductor Detector Systems Оборудование для осаждения атомных слоев ISO
Фотонно-кристаллическое оборудование для нанесения атомного слоя в оптической промышленности
Машина осаждения атомарного слоя ТиО2 ЗнО для энергетики
Триметилалюминий AL2O3 TiO2 ZnO ALD Лакировочная машина атомного слоя осаждения
Царапины Пылезащитная маска Оборудование для обнаружения дефектов поверхности подложки OEM
Размер покрытия 200×200мм оборудования для нанесения покрытий АЛД Ал2О3 оптически
подложка Фотомаски кварца 127×127мм для пользы плоскопанельного дисплея
подложка фотомаски 152×152мм ФПД для микро- нано изготовления
4
5
6
7
8
Последний
Общее 10 Страницы
